概述
    在設備設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理。使設備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
    我們公司專業(yè)生產(chǎn)RO＋EDI＋精混床超純水設備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，尤其在電控系統(tǒng)PLC方面在水處理行業(yè)技術(shù)都是比較成熟，我們也有做過很多各行業(yè)的水處理設備，這方面我們有豐富的經(jīng)驗。我們公司做出來的設備質(zhì)量比他們都有優(yōu)勢，在國內(nèi)具有一定的市場竟爭力。該產(chǎn)品由于具備性能好、價格低于國外同類產(chǎn)品價格、供貨及時、售后服務方便快捷等諸多優(yōu)勢。
    在LED生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用超純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍；含有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產(chǎn)一個顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對純水水質(zhì)有極高的要求。
    生產(chǎn)LED水質(zhì)標準：我公司LED用超純水出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
設備參數(shù)

型號：ZL-5012
水電阻率:根據(jù)用戶要求 
電壓:380（V） 
脫鹽率:99.5（%） 
加工定制:是

LED光學超純水設備用超純水設備對水質(zhì)的要求：
    新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
使用范圍
  ☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
  ☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
  ☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水

  ☆黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
  ☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
  ☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
  ☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
  ☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
  ☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
  ☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
  ☆半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
  ☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
  ☆實驗室和中試車間
  ☆汽車、家電表面拋光處理
  ☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品

典型LED光學超純水設備用超純水制備工藝：

  1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
  2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)
  3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)
  4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)
  5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)