光學(xué)薄膜清洗用超純水設(shè)備

　　設(shè)備參數(shù)：
名稱：光學(xué)薄膜清洗用超純水設(shè)備
型號：zl-bm001
操作壓力：5（Mpa）
水電阻率：18
出水量：1-100
外形尺寸：18000（cm）
電壓：380（V）
水質(zhì)：超純水
功率：130（w）
電導(dǎo)率：2
脫鹽率：90（%）
單機(jī)動力：1-100（/h）
    光學(xué)薄膜清洗用超純水設(shè)備在設(shè)計(jì)上，采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用可靠產(chǎn)品，采用PLC控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性好。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本，水利用率高，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理。